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抛光用α-氧化铝应用要求

抛光用α-氧化铝应用要求

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  • 作者:ZC-New Material
  • 来源:
  • 发布时间:2022-07-14
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【概要描述】α-氧化铝作为研磨抛光的优势就更加明显,摩氏硬度高达9,仅次于金刚石和碳化硅,对提高抛光效率大有帮助,通过转相过程中对原始晶型、晶貌的控制,能同时达到既有切削力又极具高光亮度的效果,不仅提高效率,又减少了抛光工序。 由于中国抛光研磨α-氧化铝起步较晚,对该领域的技术及应用掌握甚少,起初不明白抛光氧化铝切削力和光亮度之间的矛盾关系,使得产品要么具备高切削力,但光度很差,要么光度很好,切削力很差,无法生产出既有高切削力又兼具光亮度的α-氧化铝。

抛光用α-氧化铝应用要求

【概要描述】α-氧化铝作为研磨抛光的优势就更加明显,摩氏硬度高达9,仅次于金刚石和碳化硅,对提高抛光效率大有帮助,通过转相过程中对原始晶型、晶貌的控制,能同时达到既有切削力又极具高光亮度的效果,不仅提高效率,又减少了抛光工序。 由于中国抛光研磨α-氧化铝起步较晚,对该领域的技术及应用掌握甚少,起初不明白抛光氧化铝切削力和光亮度之间的矛盾关系,使得产品要么具备高切削力,但光度很差,要么光度很好,切削力很差,无法生产出既有高切削力又兼具光亮度的α-氧化铝。

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抛光的定义及分类

定义:抛光是指利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法。是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质工件表面进行的修饰加工。

分类:抛光方式分为:机械抛光、化学抛光、电解抛光、超声波抛光、流体抛光等。抛光介质分为:金刚石抛光液(多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。

抛光液要满足抛光速率快、抛光均一性好及抛后易清洗等要求。磨料粒子的硬度也不宜太高,以保证对膜层表面的机械损害比较轻。

在精细氧化铝领域中,氧化铝作为研磨抛光材料大致分为两大类,即熔融刚玉(如白刚玉、棕刚玉等)和烧结刚玉。所谓的烧结刚玉是指氢氧化铝、氧化铝经过高温煅烧使其转为α相的一类氧化铝,国内称为α-氧化铝,业内人士也称之为高温氧化铝。


       熔融刚玉:具有颜色洁白、硬度高、韧性稍低、纯度高、自锐性优、磨削力强、发热量小、效率高、耐酸碱腐蚀、耐高温、热稳定性好等特点。
       烧结刚玉:高温下具有较好的体积稳定性与化学稳定性,不受还原气氛、熔融玻璃和金属液的侵蚀,常温、高温机械强度和耐磨性较好。
在国内,α-氧化铝应用于研磨抛光领域始于上世纪八十年代末,随着中国的改革开放,劳动密集型的制造业被逐步转移到中国,也给中国带来了α-氧化铝抛光研磨材料,中国才有了α-氧化铝研磨抛光的概念。

       传统精抛原料:生石灰、长石粉、氧化铁红、氧化铬绿等,传统粗抛原料:长石粉、石英粉、白刚玉、棕刚玉微粉。
相比于传统抛光材料工序繁杂,工作效率低下的缺点,α-氧化铝作为研磨抛光的优势就更加明显,摩氏硬度高达9,仅次于金刚石和碳化硅,对提高抛光效率大有帮助,通过转相过程中对原始晶型、晶貌的控制,能同时达到既有切削力又极具高光亮度的效果,不仅提高效率,又减少了抛光工序。
       由于中国抛光研磨α-氧化铝起步较晚,对该领域的技术及应用掌握甚少,起初不明白抛光氧化铝切削力和光亮度之间的矛盾关系,使得产品要么具备高切削力,但光度很差,要么光度很好,切削力很差,无法生产出既有高切削力又兼具光亮度的α-氧化铝。当时该生产技术被发达国家的几个氧化铝生产商所垄断,如日本的昭和电工、住友化学、日本轻金属、德国安迈等。而中国的α-氧化铝工业才刚刚起步,只能生产出一些初级的工业陶瓷和耐火材料用α-氧化铝。限于当时的技术资源,没有进行下游客户的个性化、专业化产品设计,产品质量较差,给客户带来了不少的困顿和麻烦。

       国外:无论中抛还是精抛粉原晶形貌比较均一,没有异常大颗粒,粒度分布集中,转相温度控制适中,粉体既有切削力又能保证所抛器件表面的光亮度。
       国内:原晶形貌不规则,异常大晶粒较多,粒度分布较宽,α相含量控制不到位,切削力和光亮度不能同时得到很好的保证。
通过几十年不断的研发、应用及生产,国内抛光用α-氧化铝在世界抛光氧化铝领域崭露头角,逐步追上了国外抛光氧化铝发展的步伐,使国外产品在中国的市场份额不断缩水。应用领域涵盖了五金(不锈钢、铜合金、锌合金)、无机非金属材料(玻璃、花岗岩、水晶、大理石、无机材料珠宝)、高分子材料(汽车漆面镜面抛光、高分子材料珠宝)等系列化产品,有针对性的开发出粗抛、中抛及精抛产品,根据客户的需求定制专业化的产品。

       根据上述问题,我司优化了前驱体分解工艺,制备了原晶均一、分散的纳米氢氧化铝,以纳米氢氧化铝为原材料在均一稳定的温度场下进行高温煅烧,制备的纳米氧化铝纯度高,粒度分布集中,分散性好,原晶均一。在精细抛光、隔膜陶瓷涂覆、特种陶瓷等方面具有很好的使用性能。

 


 

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